分散和研磨介质-砾石实业提供超值的氧化锆陶瓷棒

分散和研磨介质，砾石实业提供超值的氧化锆陶瓷棒，为了满足各个行业不同的客户需求，砾石实业根据客户的特定要求，制造出特殊的、个性化的。公司的氧化锆陶瓷棒目前已经做到涵盖多方面，多地域，深受工业陶瓷使用用户的青睐。我们依托雄厚的实资、人性化的管理理念和先进的营销网络，结合自身在供销和售后方面的优势，为工业陶瓷使用用户提供尽善尽美的服务。

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分散和研磨介质，靶材的主要性能要求纯度纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”,8“发展到12”,而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。杂质含量靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。晶粒尺寸及晶粒尺寸分布通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

东莞市砾石实业投资有限公司，始建于2009-08-05，是国内较早从事氧化锆陶瓷棒进出口贸易的大型有限责任公司。公司始终秉持品质、诚信、创新的原则，以合理的设计方案，为客户提供高品质的氧化锆陶瓷棒，能够更大限度的为客户节约进口成本，并提供完善的服务。

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