真空溅射靶材的性质

它要求的溅射靶材料产业比传统的高，作为一般要求，大小，平整度，纯度和杂质含量，密度，N / O / C / S，晶粒尺寸和缺陷控制;特殊要求或更高的要求，包括：表面粗糙度，电阻值时，晶粒尺寸均匀度，组合物和组织，异物（氧化物）含量和大小，渗透性，高密度和超细晶粒等的均匀性。磁控溅射镀膜是一种发展新型的物相镀膜处理方式,就是企业用电子枪系统把电子信息发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子可以遵循动量进行转换工作原理以较高的动能不能脱离传统材料飞向基片淀积成膜。这样被镀的材料被称为溅射靶。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷进行化合物等。

简单说的话,靶材就是一个高速荷能粒子进行轰击的目标以及材料。 改变不同的靶标（如铝，铜，不锈钢，钛，镍靶，等等），以获得不同的膜为基础的（如超硬，耐磨，合金膜的腐蚀等）。用于物理镀膜中的親镀,主要有金属靶材和陶瓷靶材。

要生产平板显示器用靶材、镀膜玻璃工业（主要包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学薄膜取瑞等）用靶材、薄膜太阳能工业用靶材、表面工程（装饰＆工具）用靶材、电阻靶材、汽车车灯镀膜用靶材等。