资深的氧化铝陶瓷垫，别错过砾石实业

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  砾石实业至创建以来，始终坚持以“团结、创新、共铸未来”的经营理念为准则，多年来一直本着“专注如一”的态度推广氧化铝陶瓷垫，并推广至全国，在本地及全国均有广阔的市场覆盖率。长期以来东莞市砾石实业投资有限公司凭借着强大的实力，的生产管理，高性价比的产品及完善的售后服务体系，目前已发展成为国内主要的纯贸易业之一。

  砾石实业以“创造，服务社会”为宗旨，多年来不断发展改善，为工业陶瓷使用用户提供优异的氧化铝陶瓷垫。为了满足各个行业不同的客户需求，砾石实业根据客户的特定要求，制造出特殊的、个性化的产品，公司的氧化铝陶瓷垫销往全球多个国家，其中有全国，受到了众多的青睐。

  氧化铝陶瓷垫，靶材的主要性能要求纯度纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”,8“发展到12”,而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。杂质含量靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。晶粒尺寸及晶粒尺寸分布通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

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